4億
+研發(fā)投入/營收

原子層沉積 (ALD)技術(shù):
具有:
三維共形性,廣泛適用于不同形狀的基底
大面積成膜的均勻性,且致密、無針孔
可實現(xiàn)亞納米級的薄膜厚度控制
精確控制納米疊層和原子摻雜比例


視頻播放
研發(fā)創(chuàng)新

4億
+研發(fā)投入/營收

56200
㎡生產(chǎn)研發(fā)基地

3000
+專有技術(shù)(項)

27%
+研發(fā)人員占比

核心技術(shù)團隊
專業(yè)團隊
工藝開發(fā)

專精ALD廠商
專業(yè)ALD
專業(yè)解決方案

國內(nèi)領(lǐng)先前瞻應(yīng)用定制化
前瞻應(yīng)用
定制開發(fā)

國內(nèi)唯一全場景Demo設(shè)備線
全場景Demo
量產(chǎn)經(jīng)驗

智造創(chuàng)新
半導體設(shè)備規(guī)劃產(chǎn)能
光伏設(shè)備規(guī)劃產(chǎn)能





服務(wù)創(chuàng)新